参数规格：
| 通用 |
|---|
| Ar(氩)气 |
| 0～8 kV |
| 截面研磨 |
|---|
| 1 mm/hr*1以上含 1 mm/hr*1 |
| 8 mm*2 |
| 20(W) × 12(D) × 7(H) mm |
| X ±7 mm、Y 0~+3 mm |
| 标准配置 |
| ±15°、±30°、±40° |
| 平面研磨 |
|---|
| φ32 mm |
| φ50 × 25(H) mm |
| X 0～+5 mm |
| 标准配置 |
| 1 r/m、25 r/m |
| 0～90° |
*1Si突出遮挡板边缘100 µm，1个小时**加工深度*2使用广域截面研磨样品座时
选配
| 项目 | 内容 |
|---|
| 耐磨遮挡板是标准遮挡板的2倍左右(不含钴) |
| 放大倍率 15×～100× 双目型、三目型(可加装CCD) |
产品特点：
截面研磨速率高达1 mm/h*1！
新研发的PLUSII离子枪发射出高电流密度离子束，大幅提高*2了研磨速率。
*1Si突出遮挡板边缘100 µm，1个小时**加工深度*2研磨速率是本公司产品(IM4000PLUS:2014生产)的2倍截面研磨结果对比
(样品：自动铅笔芯、研磨时间：1.5小时)
**截面研磨宽度可达8 mm！
使用广域截面研磨样品座，加工宽度可达8 mm，十分适用于电子元件等的研磨。
复合型研磨仪
IM4000系列复合型(截面研磨、平面研磨)离子研磨仪广受好评。
可根据需求对样品进行前处理。
截面研磨 平面研磨
切割或机械研磨难以处理好的软材料或复合材料的截面制作。 机械研磨后样品的精修或表面清洁。
欢迎来电询价：18122131902（微信同号）
